信報社論|美國「卡脖子」適得其反 中國「爭口氣」晶片突破|全文

發佈日期: 2026-05-26 07:59
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信報社論|美國「卡脖子」適得其反 中國「爭口氣」晶片突破|全文
無綫新聞 TVB News
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美國實施技術封鎖,禁止荷蘭企業艾司摩爾(ASML)把最尖端的「極紫外光刻機」(EUV)賣給中國製造先進晶片,「卡脖子」反而激發「爭口氣」的鬥志,華為又取得震撼市場的自主突破。美國禁令適得其反,輝達(Nvidia)行政總裁黃仁勳慨嘆,該公司在中國的人工智能(AI)晶片市佔率,已從過去的九成暴跌至接近零,中國市場讓給了華為。

華為公司董事、半導體業務部總裁何庭波昨天(二十五日)在國際電路與系統研討會正式發表「韜定律」(τ Law),聲稱可透過新技術在二〇三一年生產實際效用等同於一點四納米的晶片。若然成真,不但縮短華為與台灣半導體龍頭台積電的差距,而且開闢一條繞過物理光刻的專屬路徑,意味着毋須依賴EUV設備,亦可大幅提升晶片性能。

「韜定律」提出以「時間縮微」替代傳統的「幾何縮微」,以系統性降低時間常數(韜)為目標,通過「邏輯折疊」等創新技術,持續壓縮訊號傳播時延,不斷提升電晶體密度,實現半導體與電子系統的持續演進。這種技術不妨稱之為「時間換取空間」,此乃中國在全球半導體領域首次提出指導產業發展的新原則,勢將改寫全球AI晶片競爭格局。

何庭波指出,這不僅是單一製程的突破,而是從底層元件優化物理電阻、電路層面打破平面布局邊界,再到系統層面的跨層級協同優化。她還披露,在過去被美國打壓的六年間,華為基於這套底層技術邏輯,成功設計並大規模量產三百八十一款晶片,廣泛應用於智能手機和AI運算等領域。

EUV光刻機是目前生產七納米或以下先進晶片不可缺少的核心設備,據估計,台積電的技術水平領先華為及其夥伴中芯國際五年。台積電曾經表示,將於二〇二八年開始量產一點四納米晶片。可如今,華為有辦法繞過EUV光刻機另闢蹊徑,相信有朝一日能夠「彎道超車」。

美國作家米勒(Chris Miller)筆下暢銷書《晶片戰爭》(Chip War)提到:中國人不可怕,可怕的是他們買了光刻機,卻不用來造晶片。按照米勒的理解,儘管中國買不到最尖端的EUV,仍可購來次一級的「深紫外光刻機」(DUV),到手後不是用來造晶片,而是進行「逆向工程」,就是把機器拆開,當作解剖對象,研究裏面的構造、零件和原理,然後依樣畫葫蘆複製。事實上,去年十二月傳出消息,中國已經研製出一台EUV原型機,由艾司摩爾的前工程師團隊通過逆向工程打造。該原型機成功運行並產生極紫外光,但尚未能製造出晶片,目標是二〇二八年前成事。

中國在美國禁令生效前,向艾司摩爾大量買來未必是最尖端的光刻機(部分甚至是低端儀器),尚有另外兩個目的,其一是作為自主研發國產儀器的測試工具,其二是直接生產十四納米或二十八納米之類的普通晶片。須知道,一般家庭電器和工業機械根本用不上太高端的晶片,中國作為全球供應鏈最完備的製造業強國,即使普通晶片也是需求強勁,只要滿足需求,自可在中美角力的地緣政治局勢裏面立於不敗之地。

華為的「韜定律」既可另闢蹊徑,如無意外的話,亦能夠壓縮生產成本(中國製造的優勢總是價廉物美),這對於艾司摩爾來說絕對是壞消息。艾司摩爾最新產品是「高數值孔徑極紫外光刻機」(High-NA EUV),用以製造二納米以下晶片,然而,作為最大客戶的台積電表示,目前沒有購買這款儀器的計劃,相關決定至少延續至二〇二九年。台積電業務開發資深副總經理張曉強坦言,艾司摩爾最新產品「非常、非常貴」,售價是四億一千萬美元。受到台積電不願當買家的消息影響,艾司摩爾股價一度下跌百分之二。

央視旗下新媒體賬號「玉淵譚天」發文稱,中國和美國經過九年博弈,兩個結論是美國想通過極限施壓打斷中國科技發展進程是不可能的,以及合作可以給中美雙方創造共同發展的空間。華為的晶片突破,再次證明美國的打壓反而為中國形成不得不自強的「倒逼機制」,畢竟科技並非一條老路走到底,你有張良計,我有過牆梯。

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